<html>
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    <meta content="text/html; charset=ISO-8859-1"
      http-equiv="Content-Type">
  </head>
  <body bgcolor="#FFFFFF" text="#000000">
    Hi,<br>
    <br>
    Great! <br>
    <br>
    I understood that you can sustain a 1,000A/ min  SiO2 etch with CFn+
    ions from a Solid Teflon Source,<br>
    triggered by O2 plasma. Correct?<br>
    <br>
    Very Interesting! Do you plan to make Patent application?<br>
    <br>
    I think that would be a very good example of the just as they said:
    "Don't let a Crisis go to Waste!"<br>
    <br>
    Thanks, Bernard<br>
    <br>
    <br>
    On 8/10/11 3:57 PM, Morrison, Richard H., Jr. wrote:
    <blockquote
      cite="mid:94CDEF5D18F0BB4A85B1D78EFBDD6FDA04819CCF@exchbk1.draper.com"
      type="cite">
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      <div class="WordSection1">
        <p class="MsoNormal">Hi Everyone,<o:p></o:p></p>
        <p class="MsoNormal"><o:p> </o:p></p>
        <p class="MsoNormal">I would like to thanks the many people that
          responded to my initial email about the STS RIE tool etching
          SiO2 during an O2 plasma.<o:p></o:p></p>
        <p class="MsoNormal"><o:p> </o:p></p>
        <p class="MsoNormal">To sum up:<o:p></o:p></p>
        <p class="MsoNormal">We replaced the vacuum pump to ensure no
          oil back streaming (Ebara dry pump), no change in etch rate or
          in the plasma emission.<o:p></o:p></p>
        <p class="MsoNormal">We replaced the cover o-ring (old one had
          Fomblin grease), no change in etch rate or in the plasma
          emission.<o:p></o:p></p>
        <p class="MsoNormal">Scrubbed the walls and ran long multi hour
          O2 clean, no change in etch rate or in the plasma emission.<o:p></o:p></p>
        <p class="MsoNormal">Removed the Teflon Shield Ring (installed
          around the chuck), etch rate went to zero and F was gone from
          the plasma emissions.<o:p></o:p></p>
        <p class="MsoNormal"><o:p> </o:p></p>
        <p class="MsoNormal">So it appears that the O2 plasma is
          liberating F from the Teflon ring which in turns etches the
          SiO2. We are consulting STS to see if there is a fix. If there
          is I will let you all know.<o:p></o:p></p>
        <p class="MsoNormal"><br>
          Thanks<o:p></o:p></p>
        <p class="MsoNormal"><o:p> </o:p></p>
        <p class="MsoNormal">Rick<o:p></o:p></p>
        <p class="MsoNormal"><o:p> </o:p></p>
        <p class="MsoNormal"><o:p> </o:p></p>
        <p class="MsoNormal"><o:p> </o:p></p>
        <p class="MsoNormal"><o:p> </o:p></p>
        <p class="MsoNormal"><o:p> </o:p></p>
        <p class="MsoNormal">Rick Morrison<o:p></o:p></p>
        <p class="MsoNormal">Senior Member Technical  Staff <o:p></o:p></p>
        <p class="MsoNormal">Acting Group Leader Mems Fabrication<o:p></o:p></p>
        <p class="MsoNormal">Draper Laboratory<o:p></o:p></p>
        <p class="MsoNormal">555 Technology Square<o:p></o:p></p>
        <p class="MsoNormal">Cambridge, MA  02139<o:p></o:p></p>
        <p class="MsoNormal"><o:p> </o:p></p>
        <p class="MsoNormal">617-258-3420<o:p></o:p></p>
        <p class="MsoNormal"><o:p> </o:p></p>
      </div>
      <br>
      <fieldset class="mimeAttachmentHeader"></fieldset>
      <br>
      <pre wrap="">_______________________________________________
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    </blockquote>
    <br>
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