<html>
  <head>
    <meta content="text/html; charset=ISO-8859-1"
      http-equiv="Content-Type">
  </head>
  <body bgcolor="#FFFFFF" text="#000000">
    <div class="moz-cite-prefix">Hi,<br>
      <br>
      I think that you use this process to dope Si wafers, correct?<br>
      Or is it an in-situ doping of some Polysilicon film deposited by
      CVD, using Silane?<br>
      <br>
      In any case you have a concurrent oxidation process with O2 flow
      at 1000C;<br>
      during which the Boron "segregates" into the SiO2 grown layer
      depleting the <br>
      Si substrate; so when you remove the oxide for 4 point probe the
      resistivity increases.<br>
      If it is PolySilicon: the thermal oxidation goes first around the
      poly grains and <br>
      high resistance again.<br>
      <br>
      I think of trying to deposit the Boron doped source layer at lower
      temperature and<br>
      for a short time ( O2 flow still is required for Diborane ) and
      continue with drive-in<br>
      at 1000C in Nitrogen only. Then remove the Diborane doped source.<br>
      <br>
      Thanks, Bernard<br>
      <br>
      On 8/9/12 7:44 AM, Siva Penmetsa wrote:<br>
    </div>
    <blockquote
cite="mid:CAHmH2YTaKeqT05Jp7HYfG4JJ-K=xjxDGeT8irRE0115dcNqCyg@mail.gmail.com"
      type="cite">
      <div>Hi All,</div>
      <div> </div>
      <div>We are trying to optimise Diborane furnace in a new CVD
        equipment.</div>
      <div> </div>
      <div>We have performed few trials(all the souces are gases) at </div>
      <div> </div>
      <div>Temperature 1000 C </div>
      <div>Diborane Flow rate in the range 40 sccm to 100 sccm</div>
      <div>Oxygen flow rate 2 SLPM</div>
      <div>Nitrogen flow rate is 3 SLPM</div>
      <div>Time 30 minutes</div>
      <div> </div>
      <div>Instead of decrese in resistance we observed that the
        resistance incresed to around 500 ohm/sq from around 50 ohm/sq</div>
      <div> </div>
      <div>We apprecite your experience and inputs on how we can resduce
        the resisitivity with better Diborane diffussion.<br clear="all">
        <br>
        -- <br>
      </div>
      <div>Thanks & Regards,</div>
      <div><strong>Siva Prasad Raju Penmetsa</strong></div>
      <div><em>Senior Facility Technologist</em></div>
      <div>National Nano Fabrication Center</div>
      <div><em>Indian Institute of Science(IISc)</em></div>
      <div>Bangalore, India 560 054</div>
      <div> </div>
      <br>
      <br>
      <fieldset class="mimeAttachmentHeader"></fieldset>
      <br>
      <pre wrap="">_______________________________________________
labnetwork mailing list
<a class="moz-txt-link-abbreviated" href="mailto:labnetwork@mtl.mit.edu">labnetwork@mtl.mit.edu</a>
<a class="moz-txt-link-freetext" href="https://www-mtl.mit.edu/mailman/listinfo.cgi/labnetwork">https://www-mtl.mit.edu/mailman/listinfo.cgi/labnetwork</a>
</pre>
    </blockquote>
    <br>
  </body>
</html>