<div dir="ltr"><div class="gmail_default" style="font-family:verdana,sans-serif;color:rgb(0,0,102)">Dear Colleagues,<br></div><div class="gmail_default" style="font-family:verdana,sans-serif;color:rgb(0,0,102)">Recently we had a problem in our RIE (Oxford Plasma lab system 100) tool. The RF Lower electrode was giving very high reflected powers for some recipes and DC bias close to 0V and we realized the auto match capacitors are misaligned. After a long effort we could got that back to almost normal, by manually tuning the RF auto match and doing error corrections. <br>

The last recipe which ran on the tool was depositing C4F8 for 10 min. Before this run chamber was clean. (We normally don't encourage polymer deposition in our RIE tool for longer durations) <br><br></div><div class="gmail_default" style="font-family:verdana,sans-serif;color:rgb(0,0,102)">

Does any one face similar problem or any idea if C4F8 polymer deposition could do this and why? <br><br></div><div class="gmail_default" style="font-family:verdana,sans-serif;color:rgb(0,0,102)"></div><br>-- <br><font style="font-family:verdana,sans-serif;color:rgb(0,0,102)">Thanks & Regards,<br>

<br><i><b>Vamsi Krishna</b></i><br>Sr.Facility Technologist - <font>P<font><font>rocess</font> Integration</font></font><br>National Nano Fabrication Center<br><span>Center for Nano Science and Engineering (CeNSE)<br>Indian Institute of Science(IISc)<br>

Banga<font>lore<font> </font></font>560012, <font>INDIA</font></span><br>Mobile:  +91 9880988239</font><br><br style="font-family:verdana,sans-serif"><font style="font-family:verdana,sans-serif" size="1"><i><font style="font-family:verdana,sans-serif;color:rgb(0,0,102)">A bird sitting on the branch of a tree is not afraid of the branch shaking or breaking, because it trusts not the branches but its OWN WINGS. </font></i></font>
</div>