<div dir="ltr"><div class="gmail_default" style="font-family:verdana,sans-serif;color:#000066">Dear Bryan,</div><div class="gmail_default" style="font-family:verdana,sans-serif;color:#000066">Here is a recipe which we used to etch few nano meters of 200 nm SOI in our OXFORD Plasmalab System 100 tool. </div><div class="gmail_default" style="font-family:verdana,sans-serif;color:#000066"><br></div><div class="gmail_default" style="font-family:verdana,sans-serif;color:#000066">BCl3 -15</div><div class="gmail_default" style="font-family:verdana,sans-serif;color:#000066">Cl2 - 10</div><div class="gmail_default" style="font-family:verdana,sans-serif;color:#000066">Chamber Pressure: 9 mT</div><div class="gmail_default" style="font-family:verdana,sans-serif;color:#000066">He-10 T</div><div class="gmail_default" style="font-family:verdana,sans-serif;color:#000066">Process Temp-10 C</div><div class="gmail_default" style="font-family:verdana,sans-serif;color:#000066">ICP- 600-700 W<br></div><div class="gmail_default" style="font-family:verdana,sans-serif;color:#000066">RF-70-80 W</div><div class="gmail_default" style="font-family:verdana,sans-serif;color:#000066">ETCH RATE - ~60-75 nm/min</div><div class="gmail_default" style="font-family:verdana,sans-serif;color:#000066"><br></div><div class="gmail_default" style="font-family:verdana,sans-serif;color:#000066">You may need to play with pressure and power to lower down the etch rate further. </div><div class="gmail_default" style="font-family:verdana,sans-serif;color:#000066"><br></div><div class="gmail_default" style="font-family:verdana,sans-serif;color:#000066">Thanks & best regards,</div><div class="gmail_default" style="font-family:verdana,sans-serif;color:#000066">vamsi</div><div class="gmail_default" style="font-family:verdana,sans-serif;color:#000066"><br></div><div class="gmail_extra"><br><div class="gmail_quote">On Fri, Jun 5, 2015 at 7:48 PM, bryan cord <span dir="ltr"><<a href="mailto:bcord@umn.edu" target="_blank">bcord@umn.edu</a>></span> wrote:<br><blockquote class="gmail_quote" style="margin:0 0 0 .8ex;border-left:1px #ccc solid;padding-left:1ex">Hi Everyone,<br>
<br>
I was wondering if anybody had experience with running a basic Cl-based atomic-layer etching process of silicon in a standard plasma etcher.  I'm thinking of trying to add it to our Oxford ICP tool as a standard process; if anyone's done or is doing something similar, could you post some process specifics?  I've got a basic outline worked out from literature references but it will probably need a lot of tweaking to actually work in our tool.<br>
<br>
Thanks!<br>
<br>
-bryan<br>
<br>
-- <br>
Bryan Cord<br>
Minnesota Nano Center (MNC)<br>
University of Minnesota<br>
115 Union St SE, Rm 153<br>
Minneapolis, MN 55455<br>
<a href="tel:612.626.3287" value="+16126263287" target="_blank">612.626.3287</a> (work)<br>
<a href="tel:857.891.6820" value="+18578916820" target="_blank">857.891.6820</a> (cell)<br>
<a href="mailto:bcord@umn.edu" target="_blank">bcord@umn.edu</a><br>
<a href="http://wiki.umn.edu/EBPG" target="_blank">http://wiki.umn.edu/EBPG</a><br>
<br>
<br>
_______________________________________________<br>
labnetwork mailing list<br>
<a href="mailto:labnetwork@mtl.mit.edu" target="_blank">labnetwork@mtl.mit.edu</a><br>
<a href="https://www-mtl.mit.edu/mailman/listinfo.cgi/labnetwork" target="_blank">https://www-mtl.mit.edu/mailman/listinfo.cgi/labnetwork</a><br>
</blockquote></div><br><br clear="all"><div><br></div>-- <br><div class="gmail_signature"><div dir="ltr"><div><div dir="ltr"><font style="font-family:verdana,sans-serif;color:rgb(0,0,102)" size="2"><span style="color:rgb(102,102,102)">--<br>Thanks & Best Regards,<br>-----------------<br><b>N.P.Vamsi Krishna</b></span><br><span>Center for Nano Science and Engineering (CeNSE),<br>Indian Institute of Science(IISc), Banga<font size="2">lore.</font><br><font size="2">INDIA</font></span>-</font><font style="font-family:verdana,sans-serif;color:rgb(0,0,102)" size="2"><span>560012</span></font><br><br style="font-family:verdana,sans-serif"><h1 style="margin:0px 0px 15px;color:rgb(24,24,24);font-weight:normal;padding:0px;font-size:14px;font-family:Georgia,'Times New Roman',serif;line-height:18px">“Educating the mind without educating the heart is no education at all.” -Aristotle</h1></div></div></div></div>
</div></div>