<div dir="ltr">Dear All,<div><br></div><div>While we all allow PH3 gas for implantation, there has been known concern that Phosphorus in different other forms causes contamination in MOS devices. Recently we have refused black phosphorus material in ALD anticipating contamination issues.</div><div><br></div><div>If anybody has dealt with this situation, we would like to take help of their leanings vis-a-vis, what forms are potentially should not be allowed in what chambers/processes.<br clear="all"><div><br></div><div>Thanks a lot!</div><div><br></div>-- <br><div class="gmail_signature"><div dir="ltr"><div><div dir="ltr"><div><div dir="ltr"><div dir="ltr"><div>Thanks,<br></div><div>Kamal Yadav</div><div>Sr. Process Technologist</div><div>Electrical Engineering</div><div>IIT Bombay</div><div>Mobile: 7506144798</div></div></div></div></div></div></div></div>
</div></div>