<div dir="ltr"><div>Dear Colleagues in the LabNetwork,</div><div><br></div><div>Good day! I got a request for the plasma etch of a chalcogenide that I have zero experience with. So, I figure I should consult LabNetwork's professional opinions before making any rush decision. Your response will be extremely helpful to us.</div><div><br></div><div>We have a STS ICP etcher dedicated for Si DRIE. The chamber is carefully kept clean that only photoresist and Si-based dielectrics are allowed to present so far. Now, a faculty member wanted to etch a thin film of GeSbSe in the chamber using CHF3 + Ar on a regular basis. I remember that both Sb and Se are poisonous to the vacuum systems, but I cannot recall exactly why. Here are my qestions:</div><div><br></div><div>1. Can anyone let me know how those elements are harmful to the vacuum systems, please? </div><div><br></div><div>2. I tried to ask our EH&S people about the compatibility of the exhaust, but they are not sure either. Is there a foreseeable compatibility issue in the exhaust? Is it likely that we will need to have an inspection from the authority, such as the fire department, etc., to be permitted to emit the byproducts of this chalcogenide film?</div><div><br></div><div>3. Is it likely that the etch will cause any irreversible contamination/change to the ICP system that cannot be recovered by a standard cleaning process? (I was just worried that the Si DRIE will be runined after this etch.)</div><div><br></div><div>Again, your opinion will be deeply appreciated. Thank you so much for your time and help.</div><div><br></div><div>Sincerely,</div><div><br></div><div>Tzu-Min</div><div><br>-- <br></div><div><div dir="ltr"><div><div dir="ltr"><div><div dir="ltr"><div><font face="georgia,serif">Tzu-Min Ou, Ph.D.</font></div><div><font face="georgia,serif">Lab Manager</font></div><div><font face="georgia,serif">Colorado Nanofabrication Laboratory</font></div><div><font face="georgia,serif">Department of Electrical, Computer, and Energy Engineering</font></div><div><font face="georgia,serif">University of Colorado at Boulder</font></div></div></div></div></div></div></div>
</div>