<div dir="ltr">Good afternoon,<br><div><br></div><div>I am etching 7 microns of spin-coated polyimide using a chrome mask and a direct oxygen plasma in a PlasmaTherm790 at 100 mTorr of pressure, and I am observing a foggy pale yellow residue after and during the etch that can be rubbed off easily with a clean room swab. </div><div><br></div><div>Has anyone on Labnetwork observed this same thing, or know what this might be?</div><div><br></div><div>Thanks,</div><div>Vivian Yu</div><div>Princeton University</div></div>