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<p class="MsoNormal">Hello,<o:p></o:p></p>
<p class="MsoNormal"><o:p> </o:p></p>
<p class="MsoNormal">As part of 2018 NNCI Etch Workshop, we are having a one day symposium covering a wide range of topics such as atomic layer etching, diamond etching, crystal orientation dependent etching, vapor phase etching, Plasma dicing, Plasma damage,
 deep oxide etching, compound semiconductor etching, etc.  Attached is the Symposium announcement letter.  Please register using the link in the announcement letter if you would like to attend.<o:p></o:p></p>
<p class="MsoNormal"><o:p> </o:p></p>
<p class="MsoNormal">Regards,<o:p></o:p></p>
<p class="MsoNormal"><o:p> </o:p></p>
<p class="MsoNormal">Usha<o:p></o:p></p>
<p class="MsoNormal"><o:p> </o:p></p>
<p class="MsoNormal">Usha Raghuram, Ph. D.<o:p></o:p></p>
<p class="MsoNormal">Senior Member of Technical Staff<o:p></o:p></p>
<p class="MsoNormal">Stanford Nanofabrication Facility<o:p></o:p></p>
<p class="MsoNormal">Paul G. Allen Building<o:p></o:p></p>
<p class="MsoNormal">420 Via Palou Mall<o:p></o:p></p>
<p class="MsoNormal">Stanford, CA 94305<o:p></o:p></p>
<p class="MsoNormal"><a href="mailto:usha@stanford.edu">usha@stanford.edu</a><o:p></o:p></p>
<p class="MsoNormal"><o:p> </o:p></p>
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