<div dir="ltr"><div dir="ltr"><div>Dear All,</div><div><br></div><div>We are planning to upgrade our Photomask Cleaning process,</div><div>(currently using Acetone, IPA and Piranha).</div><div><br></div><div>Please let us know your recommendations on the solutions, materials, scrubbing.</div><div>Any suggestions on the suppliers?</div><div><br></div><div>Thanks in advance,</div><div><br></div><div dir="ltr" class="gmail_signature"><div dir="ltr"><div><div dir="ltr"><div><div dir="ltr"><div><div><span style="font-size:12.8px">With Regards,</span><br></div><div>Siva Penmetsa,</div><div>Technology Manager,</div><div>National Nano Fabrication Centre(NNfC),</div><div>Centre for Nano Science And Engineering(CeNSE),</div><div>Indian Institute of Science(IISc), Bangalore</div></div>
<div><a href="mailto:siva@cense.iisc.ernet.in" target="_blank"></a> </div></div></div></div></div></div></div></div></div>