<div dir="ltr"><div>Hello, </div><div><br></div><div>We are trying to pattern HSQ with EBL on AlN film substrate,. We typically use 2.2%TMAH (MF 319)as our HSQ developer.</div><div>However TMAH will attach AlN film and cause problem for our sample.</div><div><br></div><div>Does anyone has some HSQ developer that is compatible with AlN?</div><div><br></div><div>Thanks.</div><div><br></div><div>Edmond</div><br><div class="gmail_quote"><div dir="ltr" class="gmail_attr"><br></div></div></div>