<div dir="ltr">Edmond,<div><br></div><div>For positive photoresists that develop in TMAH, we used to use CD-30 developer (an alkaline phosphate salt) when exposing AlN. It's no longer sold, I believe, but instead you can buy "Microposit Developer Concentrate" which is the same thing but needs dilution in DI to have the same concentration. I do not know if it would work for HSQ, I just know it worked for other TMAH-developed resists (e.g. SPR, S1800, etc).<div><br></div><div>-Kevin</div></div></div><br><div class="gmail_quote"><div dir="ltr" class="gmail_attr">On Wed, Mar 6, 2019 at 5:06 PM Edmond Chow <<a href="mailto:kchow10@gmail.com">kchow10@gmail.com</a>> wrote:<br></div><blockquote class="gmail_quote" style="margin:0px 0px 0px 0.8ex;border-left:1px solid rgb(204,204,204);padding-left:1ex"><div dir="ltr"><div>Hello, </div><div><br></div><div>We are trying to pattern HSQ with EBL on AlN film substrate,. We typically use 2.2%TMAH (MF 319)as our HSQ developer.</div><div>However TMAH will attach AlN film and cause problem for our sample.</div><div><br></div><div>Does anyone has some HSQ developer that is compatible with AlN?</div><div><br></div><div>Thanks.</div><div><br></div><div>Edmond</div><br><div class="gmail_quote"><div dir="ltr" class="gmail_attr"><br></div></div></div>
_______________________________________________<br>
labnetwork mailing list<br>
<a href="mailto:labnetwork@mtl.mit.edu" target="_blank">labnetwork@mtl.mit.edu</a><br>
<a href="https://mtl.mit.edu/mailman/listinfo.cgi/labnetwork" rel="noreferrer" target="_blank">https://mtl.mit.edu/mailman/listinfo.cgi/labnetwork</a><br>
</blockquote></div><br clear="all"><div><br></div>-- <br><div dir="ltr" class="gmail_signature"><div dir="ltr"><div><div dir="ltr"><div>Kevin Owen<div>Senior Engineer in Research</div><div>Operations Group, Lurie Nanofabrication Facility</div><div>University of Michigan</div><div>(734) 545-4014</div></div></div></div></div></div>