<div dir="auto"><div dir="auto">Hi,</div><div dir="auto"><br></div>Usually a good guess would be 1:1 ratio. Metalls are usually etched faster, in IBM, than resists. However, an important issue is the lateral dimensions, if they are smaller than 100nm you will get a redeposition issues. You will get Nickel on your resist sidewalls.<div dir="auto"><br></div><div dir="auto">Regards,</div><div dir="auto">Youry</div></div><br><div class="gmail_quote"><div dir="ltr" class="gmail_attr">On Wed, May 22, 2019, 23:20 Ferraguto, Thomas S <<a href="mailto:Thomas_Ferraguto@uml.edu">Thomas_Ferraguto@uml.edu</a>> wrote:<br></div><blockquote class="gmail_quote" style="margin:0 0 0 .8ex;border-left:1px #ccc solid;padding-left:1ex">





<div lang="EN-US" link="#0563C1" vlink="#954F72">
<div class="m_-2370254487773315563WordSection1">
<p class="MsoNormal">Colleagues,<u></u><u></u></p>
<p class="MsoNormal"><u></u> <u></u></p>
<p class="MsoNormal">I have a customer that needs dry etch 18nm. We can’t use our ICP for the process. Does anyone have an Ion Mill Tool that could provide him the service.<u></u><u></u></p>
<p class="MsoNormal"><u></u> <u></u></p>
<p class="MsoNormal">Regards<u></u><u></u></p>
<p class="MsoNormal"><u></u> <u></u></p>
<p class="MsoNormal">Tom Ferraguto<u></u><u></u></p>
</div>
</div>

_______________________________________________<br>
labnetwork mailing list<br>
<a href="mailto:labnetwork@mtl.mit.edu" target="_blank" rel="noreferrer">labnetwork@mtl.mit.edu</a><br>
<a href="https://mtl.mit.edu/mailman/listinfo.cgi/labnetwork" rel="noreferrer noreferrer" target="_blank">https://mtl.mit.edu/mailman/listinfo.cgi/labnetwork</a><br>
</blockquote></div>