<div dir="ltr"><div>Dear All,</div><div>We are wondering how often do you change the RIE process gases even the gases are not run out. We have been told that they should be changed in max 3 years even if they are almost full but we have been using some of them (SF6, C4F8, CHF3)  for 5 years and we didn't realize any process-related critical problems during the dry etching process.</div><div>Have you ever faced with any problems for Fluorine and Chlorine based gases in your institutes?</div><div>We would appreciate if you could share your experiences and regulations considering the shell life of the process gases at your facilities</div><div>Best Regards,</div><div><br></div><div>-- <br><div dir="ltr" class="gmail_signature" data-smartmail="gmail_signature"><div dir="ltr"><div><div dir="ltr"><div><div dir="ltr"><div><br><span style="font-family:tahoma,sans-serif">Cenk YANIK, PhD<i><br></i></span></div><span style="font-family:tahoma,sans-serif">Nanofabrication Team Leader</span><br><span></span><br><div><span style="font-family:tahoma,sans-serif">Sabanci University <br>Nanotechnology Research and Application Center ( SUNUM )<br>Orta Mahalle, Üniversite Caddesi No: 27 34956 Tuzla - İstanbul<br>Office:</span><span><span style="font-family:tahoma,sans-serif">+90 216 483 9994<br>web:</span> </span><a href="http://sunum.sabanciuniv.edu">sunum.sabanciuniv.edu</a><span></span><br></div></div></div></div></div></div></div></div></div>