<div dir="ltr">Dear all, <div>We are trying to deposit Ni-10nm and Au-50nm on top patterned EL9-PMMA e-beam lithography sample for liftoff. But the deposited film is grainy and agglomerated. </div><div>This problem does not occur with photolitithography resists or for any other depositions. It only arises in case of samples that have undergone e-beam lithography and have patterned e-beam resist on top. We are unable to troubleshoot the root cause. Attaching an image below</div><div><br></div><div>Has anyone else faced similar problems?</div><div>Did you manage to troubleshoot the issue and find a solution?</div><div>Kindly let us know.</div><div><br></div><div><br></div><div><div><div><img src="cid:ii_k303ispy1" alt="image.png" width="146" height="103"><br></div></div></div><div><br>-- <br><div dir="ltr" class="gmail_signature" data-smartmail="gmail_signature"><div dir="ltr"><div>Thanks & regards<br>Pradnya<br>-------------------------------------------<br>Process Technologist,<br>CEN, IITBNF, Electrical Engg Dept, Annexe,<br>IIT Bombay, Mumbai, Powai- 400076<br>Contact - 09420391187(M)<br></div></div></div></div></div>