<div dir="ltr">Hello all,<div><br></div><div>We recently purchased a micromist coater PDR-04 and did some initial testing using a negative photoresist to evaluate the effect of PR flow rate, scan speed and pitch on coating thickness on a 4" silicon wafer. Our results showed a film thickness of a few nm with a single pass. The settings were based on the manufacturer's recommendations (3-6 ml/hr, 20-40 mm/s, 1-2 mm pitch, 430 microns nozzle). I would like to know if such small film thickness with a single coat is normal. Any input will be greatly appreciated.</div><div><br></div><div>Thank you,</div><div>Manish Keswani</div><div>Lawrence Livermore National Laboratory</div><div><br></div></div>