<div dir="ltr"><div><div dir="ltr" class="gmail_signature" data-smartmail="gmail_signature"><div dir="ltr"><div><div dir="ltr"><div dir="ltr"><font face="Tahoma">Hi Bill,</font></div><div dir="ltr"><font face="Tahoma"><br></font></div><div><font face="Tahoma">Is PECVD acceptable? We can do this with our Plasma-Therm SLR PECVD (</font><a href="https://nano3.calit2.net/equipment/machine.php?eid=93">https://nano3.calit2.net/equipment/machine.php?eid=93</a>).</div><div><br></div><div>Best,</div><div>Xuekun</div></div></div></div></div></div><br></div><br><div class="gmail_quote"><div dir="ltr" class="gmail_attr">On Fri, Feb 19, 2021 at 8:37 AM Bill Kiether <<a href="mailto:wjkiethe@ncsu.edu">wjkiethe@ncsu.edu</a>> wrote:<br></div><blockquote class="gmail_quote" style="margin:0px 0px 0px 0.8ex;border-left:1px solid rgb(204,204,204);padding-left:1ex"><div dir="ltr">Hello all, <div><br></div><div>We have a customer that needs some specific capabilities for low stress Silicon Nitride that we can't provide right now. Does anyone have a well established process that can reach these values. The specs are:</div><div><br></div><div>4" wafers </div>Target thicknesses are 500A and 1500A, <div>with stress 200MPa +/- 50 and refractive index 2.15 +/- 0.05</div><div><br></div><div>Please send me your contact info and I will pass it along. </div></div>
_______________________________________________<br>
labnetwork mailing list<br>
<a href="mailto:labnetwork@mtl.mit.edu" target="_blank">labnetwork@mtl.mit.edu</a><br>
<a href="https://urldefense.com/v3/__https://mtl.mit.edu/mailman/listinfo.cgi/labnetwork__;!!Mih3wA!SmQcMNwzGr1aXxYgRAN3GfJfvJD5cfYanR7JuqfWRJIxKbsX0fUqwUqmHwYy-w$" rel="noreferrer" target="_blank">https://urldefense.com/v3/__https://mtl.mit.edu/mailman/listinfo.cgi/labnetwork__;!!Mih3wA!SmQcMNwzGr1aXxYgRAN3GfJfvJD5cfYanR7JuqfWRJIxKbsX0fUqwUqmHwYy-w$</a> <br>
</blockquote></div>