<div dir="ltr">Dear All,<br>We have a user that needs to deposit <b>Bismuth </b>for contact electrodes for 2D materials.<div><br><div>We also have an Edwards 306 thermal evaporator for these types of exotic/"contaminating" materials deposition requests. However, the results he is getting on this tool are not satisfactory (sometimes he will get 50% working devices and sometimes 0). So they ask to use Bi in a general use e-Beam evaporator.</div><div><br></div><div>I have 2 questions:</div><div>1. Do any of you have experience in evaporating Bismuth in general use e-Beam evaporator? And what are the main concerns?</div><div>2. Alternatively, do any of you have any input on how to improve the deposition repeatability or what's the important parameter to look at during Bismuth deposition in thermal evaporation? </div></div><div><br></div><div>Thank you and Best regards,</div><div>Youry Borisenkov, Ph.D.</div><div>Process engineer CNI Shared Labs</div><div>Columbia University</div></div>