<div dir="auto">We started using MLO-07. I am seeing similar results to prs 2000 using a similar heated bath process.<div dir="auto"><br></div><div dir="auto">-Brandon</div></div><br><div class="gmail_quote"><div dir="ltr" class="gmail_attr">On Fri, Sep 23, 2022, 11:52 AM John Ransom <<a href="mailto:jaransom@uark.edu">jaransom@uark.edu</a>> wrote:<br></div><blockquote class="gmail_quote" style="margin:0 0 0 .8ex;border-left:1px #ccc solid;padding-left:1ex">





<div lang="EN-US" link="#0563C1" vlink="#954F72" style="word-wrap:break-word">
<div class="m_5911532827494878802WordSection1">
<p class="MsoNormal">A fab that I worked in a few years ago used Gensolve.  I don’t know exactly what version, but searching “Gensolve resist stripper” brings up a website  from vwr and I am sure you could call them to get the right chemical for you. There
 was an earlier reply that mentioned EKC after a long plasma etch – I second that recommendation.  If you have Si containing polymers, you will need an EKC type of chemical to break down the polymer.  It is classic in older semiconductor fabs to strip resist
 after an oxide via or contact etch to use EKC.  It removes “via crowns”.<u></u><u></u></p>
<p class="MsoNormal">Good Luck<u></u><u></u></p>
<p class="MsoNormal"><u></u> <u></u></p>
<p class="MsoNormal">John Ransom<u></u><u></u></p>
<p class="MsoNormal">Program Manager – MUSiC Facility<u></u><u></u></p>
<p class="MsoNormal"><b>M</b>ulti-<b>U</b>ser <b>SiC</b> Fabrication Facility<u></u><u></u></p>
<p class="MsoNormal">University of Arkansas<u></u><u></u></p>
<p class="MsoNormal"><u></u> <u></u></p>
<p class="MsoNormal"><u></u> <u></u></p>
<p class="MsoNormal"><u></u> <u></u></p>
<div style="border:none;border-top:solid #e1e1e1 1.0pt;padding:3.0pt 0in 0in 0in">
<p class="MsoNormal"><b>From:</b> labnetwork <<a href="mailto:labnetwork-bounces@mtl.mit.edu" target="_blank" rel="noreferrer">labnetwork-bounces@mtl.mit.edu</a>> <b>
On Behalf Of </b>Katharine Beach<br>
<b>Sent:</b> Thursday, September 22, 2022 3:02 PM<br>
<b>To:</b> <a href="mailto:labnetwork@mtl.mit.edu" target="_blank" rel="noreferrer">labnetwork@mtl.mit.edu</a><br>
<b>Subject:</b> [labnetwork] PRS-2000 replacment<u></u><u></u></p>
</div>
<p class="MsoNormal"><u></u> <u></u></p>
<div>
<p class="MsoNormal">We've been using PRS-2000 for our positive resist strip for years. Due to some supply chain issues, we are considering updating our supplied chemicals. I was wondering what photo resists stripers others are using and would recommend.<u></u><u></u></p>
<div>
<p class="MsoNormal"><u></u> <u></u></p>
</div>
<div>
<p class="MsoNormal">Thanks,<u></u><u></u></p>
</div>
<div>
<p class="MsoNormal">Katharine Beach<u></u><u></u></p>
</div>
<div>
<p class="MsoNormal">Lurie Nanofabrication Facility<u></u><u></u></p>
</div>
</div>
</div>
</div>

_______________________________________________<br>
labnetwork mailing list<br>
<a href="mailto:labnetwork@mtl.mit.edu" target="_blank" rel="noreferrer">labnetwork@mtl.mit.edu</a><br>
<a href="https://mtl.mit.edu/mailman/listinfo.cgi/labnetwork" rel="noreferrer noreferrer" target="_blank">https://mtl.mit.edu/mailman/listinfo.cgi/labnetwork</a><br>
</blockquote></div>