<div dir="ltr"><div class="gmail_default" style="font-size:small"><p class="MsoNormal">All:</p><p class="MsoNormal"><br></p><p class="MsoNormal">The UCSB Nanofab has a used Jeol 7600F SEM for sale. The gun has low hours on it and has plenty of life left. We are looking to get $50K but will entertain reasonable offers. </p><p class="MsoNormal"><b><span style="font-size:18pt"><br></span></b></p><p class="MsoNormal"><b><span style="font-size:18pt">Detailed Specifications</span></b></p><p class="MsoNormal"><b><span style="font-size:13.5pt">Imaging</span></b></p><ul type="disc"><li class="MsoNormal" style="margin-left:15px">Resolution:</li></ul><ul type="disc"><ul type="circle"><li class="MsoNormal" style="margin-left:15px">5nm under optimal conditions at 15kV SEM mode</li></ul></ul><ul type="disc"><li class="MsoNormal" style="margin-left:15px">Magnification:</li></ul><ul type="disc"><ul type="circle"><li class="MsoNormal" style="margin-left:15px">SEM: x100 (at WD 25mm) to x1,000,000 (at WD 8mm)</li><li class="MsoNormal" style="margin-left:15px">Low-Mag LM mode: x25 to x19,000</li></ul></ul><ul type="disc"><li class="MsoNormal" style="margin-left:15px">Imaging Modes/Detectors:</li></ul><ul type="disc"><ul type="circle"><li class="MsoNormal" style="margin-left:15px">SEI: secondary electron imaging</li><li class="MsoNormal" style="margin-left:15px">LM: Low-magnification mode</li><li class="MsoNormal" style="margin-left:15px">GB: Gentle-Beam mode</li></ul></ul><ul type="disc"><ul type="circle"><ul type="square"><li class="MsoNormal" style="margin-left:15px">Applies negative voltage to the sample stage to increase effective acceleration without increasing beam acceleration (reducing charging).</li></ul></ul></ul><ul type="disc"><ul type="circle"><li class="MsoNormal" style="margin-left:15px">LABE: Low-Angle Backscatter Electron detector</li></ul></ul><ul type="disc"><ul type="circle"><ul type="square"><li class="MsoNormal" style="margin-left:15px">Inserts between the objective lens and the sample</li><li class="MsoNormal" style="margin-left:15px">Strong contrast between materials</li></ul></ul></ul><ul type="disc"><ul type="circle"><li class="MsoNormal" style="margin-left:15px">LEI: Lower Electron Detector</li></ul></ul><ul type="disc"><ul type="circle"><ul type="square"><li class="MsoNormal" style="margin-left:15px">Detector is lower on chamber, creating strong topographical contrast.</li></ul></ul></ul><ul type="disc"><li class="MsoNormal" style="margin-left:15px">Accelerating Voltages:</li></ul><ul type="disc"><ul type="circle"><li class="MsoNormal" style="margin-left:15px">SEM: 0.5 to 30kV</li><li class="MsoNormal" style="margin-left:15px">GB: 0.1 to 2.0kV</li></ul></ul><ul type="disc"><li class="MsoNormal" style="margin-left:15px">Beam Currents: 10^-13 to 2x10^-7 A</li></ul><p class="MsoNormal"><b><span style="font-size:13.5pt">Mechanical</span></b></p><ul type="disc"><li class="MsoNormal" style="margin-left:15px">Max Sample Size: 4-inch wafer</li><li class="MsoNormal" style="margin-left:15px">Stage movement:</li></ul><ul type="disc"><ul type="circle"><li class="MsoNormal" style="margin-left:15px">max: 70 x 50mm</li><li class="MsoNormal" style="margin-left:15px">4-inch wafer: limited to ~25x25mm movement area from wafer center.</li></ul></ul><ul type="disc"><li class="MsoNormal" style="margin-left:15px">Tilt: -5° to +70°</li><li class="MsoNormal" style="margin-left:15px">Rotation: 360°</li><li class="MsoNormal" style="margin-left:15px">Specimen holders :</li></ul><ul type="disc"><ul type="circle"><li class="MsoNormal" style="margin-left:15px">Copper and XYZ Carbon tape available</li><li class="MsoNormal" style="margin-left:15px">4-inch wafer with topside clips</li><li class="MsoNormal" style="margin-left:15px">1-inch holder for 30°/90°, 45°/90° mounting with tape or clips.</li></ul></ul><p class="MsoNormal"><font color="#000000">Electron detection:</font></p><ul type="disc"><li class="MsoNormal" style="margin-left:15px"><font color="#000000"><b>SEI</b>: in-lens secondary electron detector for high-resolution imaging.</font></li></ul><ul type="disc"><ul type="circle"><li class="MsoNormal" style="margin-left:15px"><font color="#000000">r-filter to select electron energies to pass through to the SEI detector for image enhancement.</font></li></ul></ul><ul type="disc"><li class="MsoNormal" style="margin-left:15px"><font color="#000000"><b>LEI</b>: lower, in-chamber secondary electron detector for enhanced topographical contrast; very helpful with charging substrates.</font></li><li class="MsoNormal" style="margin-left:15px"><font color="#000000"><b>LABE</b>: insertable, in-chamber <u>l</u>ow-<u>a</u>ngle <u>b</u>ackscattered <u>e</u>lectron detector for atomic number imaging contrast</font></li><li class="MsoNormal" style="margin-left:15px"><font color="#000000"><b>Mixed</b>: can combine inputs from the 3 detectors above to get a more detailed overall image contrast.</font></li></ul><p class="MsoNormal"><font color="#000000"> </font></p><p class="MsoNormal"><font color="#000000">Imaging Modes:</font></p><ul type="disc"><li class="MsoNormal" style="margin-left:15px"><font color="#000000"><b>Gentle Beam</b>: substrate biasing up to -2kV for lower net beam voltages at the substrate.  This effect directly reduces insulator charging issues when imaging.</font></li><li class="MsoNormal" style="margin-left:15px"><font color="#000000"><b>SEM</b>: regular, hi-resolution imaging mode (up to 1,000,000X mag)</font></li></ul><p class="MsoNormal"><font color="#000000"><b>LM</b>: low magnification (down to 25X mag) used for finding regions of interest on the substrate.</font></p></div><div class="gmail_default" style="font-size:small"><br></div><div class="gmail_default" style="font-size:small">Regards, </div><div class="gmail_default" style="font-size:small"><br></div><div><div dir="ltr" class="gmail_signature" data-smartmail="gmail_signature"><div dir="ltr"><div><div dir="ltr"><div><div dir="ltr">Mike Silva<div>Operations Manager</div><div>ESB Nanofab</div><div>The University of California Santa Barbara</div><div>Office: (805) 893-3096</div><div>Cell:    (805) 245-9356</div><div>Fax:    (805) 893-7210</div></div></div></div></div></div></div></div></div>