<div dir="ltr"><p class="MsoNormal" style="margin:0in 0in 8pt;line-height:107%;font-size:11pt;font-family:Calibri,sans-serif">PECVD with SiH4 concentration of 4% or less?</p>

<p class="MsoNormal" style="margin:0in 0in 8pt;line-height:107%;font-size:11pt;font-family:Calibri,sans-serif"> </p>

<p class="MsoNormal" style="margin:0in 0in 8pt;line-height:107%;font-size:11pt;font-family:Calibri,sans-serif">Is anybody using conventional PECVD (not ICP-CVD or HDP-CVD)
to deposit silicon oxide and silicon nitride films using gas cylinders with a silane
concentration of 4% or less?</p>

<p class="MsoNormal" style="margin:0in 0in 8pt;line-height:107%;font-size:11pt;font-family:Calibri,sans-serif">If so, I’m hoping you can provide me:</p>

<p class="MsoNormal" style="margin:0in 0in 8pt;line-height:107%;font-size:11pt;font-family:Calibri,sans-serif">Contact or facility name:</p>

<p class="MsoNormal" style="margin:0in 0in 8pt;line-height:107%;font-size:11pt;font-family:Calibri,sans-serif">PECVD Make/Model:</p>

<p class="MsoNormal" style="margin:0in 0in 8pt;line-height:107%;font-size:11pt;font-family:Calibri,sans-serif">Gas cylinder SiH4 concentration (e.g. 2% SiH4, in a balance of
N2):</p>

<p class="MsoNormal" style="margin:0in 0in 8pt;line-height:107%;font-size:11pt;font-family:Calibri,sans-serif"> </p>

<p class="MsoNormal" style="margin:0in 0in 8pt;line-height:107%;font-size:11pt;font-family:Calibri,sans-serif">Background:  There
used to be a few universities using 2% silane with some older PECVD systems. I’ve
been chatting with the typical tool vendors that most universities are familiar
with about new PECVD systems, and based on their reactions you’d think I was
asking them about unicorns (smile!).  They
all appear to be claiming their systems are being used with 5% to 100% silane
and they don’t know much about their films or process window if used at lower concentrations.
I’m hoping I might come across a few folks that are using lower silane
concentrations with somewhat newer model PECVD systems.   </p>

<p class="MsoNormal" style="margin:0in 0in 8pt;line-height:107%;font-size:11pt;font-family:Calibri,sans-serif"> </p>

<p class="MsoNormal" style="margin:0in 0in 8pt;line-height:107%;font-size:11pt;font-family:Calibri,sans-serif">Thanks,</p>

<p class="MsoNormal" style="margin:0in 0in 8pt;line-height:107%;font-size:11pt;font-family:Calibri,sans-serif">Phil Chapman – Microengineering Lab Mgr - Dartmouth College </p>

<p class="MsoNormal" style="margin:0in 0in 8pt;line-height:107%;font-size:11pt;font-family:Calibri,sans-serif"><a href="mailto:phillip.f.chapman@dartmouth.edu" style="color:rgb(5,99,193)">phillip.f.chapman@dartmouth.edu</a></p>

<p class="MsoNormal" style="margin:0in 0in 8pt;line-height:107%;font-size:11pt;font-family:Calibri,sans-serif">or</p>

<p class="MsoNormal" style="margin:0in 0in 8pt;line-height:107%;font-size:11pt;font-family:Calibri,sans-serif"><a href="mailto:phillip.chapman83@gmail.com" style="color:rgb(5,99,193)">phillip.chapman83@gmail.com</a></p><p class="MsoNormal" style="margin:0in 0in 8pt;line-height:107%;font-size:11pt;font-family:Calibri,sans-serif"><br></p></div>