<div dir="ltr"><div dir="ltr"><font face="arial, sans-serif">Hi,</font><div><font face="arial, sans-serif"><br></font></div><div><font face="arial, sans-serif">I am dealing with contamination of the ALD chamber and also pocket Si wafer. What is the best way to passivate the ALD chamber and also the Si pocket wafer which has high levels of Na and K contamination?</font></div><span class="gmail-ui-provider ef gmail-azs gmail-azp gmail-azt gmail-azu gmail-azv gmail-azw gmail-azx gmail-azy gmail-azz gmail-baa gmail-bab gmail-bac gmail-bae gmail-baf gmail-bag gmail-bah gmail-bai gmail-baj gmail-bak gmail-bal gmail-bam gmail-ban gmail-bao gmail-bap gmail-baq gmail-bar gmail-bas gmail-bat gmail-bau gmail-bav gmail-baw gmail-bax gmail-bay gmail-baz" dir="ltr"><span style="font-size:14px"><p style=""><font face="arial, sans-serif">Also, does anyone have any experience of the barrier properties of common ALD dielectrics like Al2O3, SiO2, and HfO2 for e.g. Na, Cu, Sn, Zn, Fe, K?</font></p><p style=""><span style="font-family:arial,sans-serif">Thank you,</span></p><p style=""><span style="font-family:arial,sans-serif">Dilek </span><br></p></span></span></div></div>