<div dir="ltr">
<div>Hi all,</div><div><br></div><div>I'm interested in etching roughly 
100 nm of Hf on silicon. There's a concern about the etch byproducts 
(mainly HfCl4) being difficult to remove and therefore causing chamber contamination 
for subsequent users.</div><div><br></div><div>Does anyone out there have experience plasma etching Hf? If so</div><div><br></div><div>1) Can you confirm a Cl based etch is best? Any luck using a F based etch?</div><div>2) What is the post-etch chamber clean recipe that you use?</div><div><br></div><div>Thanks for your help!</div><div><br></div><div>-Chris</div><span class="gmail_signature_prefix">-- </span><br><div dir="ltr" class="gmail_signature"><div dir="ltr">R&D Engineer 3<br>Experimental Cosmology Group<br>Radio Astronomy Lab<br>University of California, Berkeley<br>278 LeConte Hall<br>Berkeley, CA,     <br>Email: <a href="mailto:craum@berkeley.edu" target="_blank">craum@berkeley.edu</a></div></div>

<br></div>