<div dir="ltr"><div><div class="gmail_default" style="font-family:georgia,serif;font-size:small">Additional info:</div><div class="gmail_default" style="font-family:georgia,serif;font-size:small">I also checked the "tool health": Our process control data shows ~3% uniformity for the standard SiO2 & Si3N4 films.</div><div class="gmail_default" style="font-family:georgia,serif;font-size:small">I also had interns run 4 wafers (100mm each) at a time of these std. SiO2/Si3N4, which also showed good uniformity (<10%).</div><div class="gmail_default" style="font-family:georgia,serif;font-size:small"><br></div><div class="gmail_default" style="font-family:georgia,serif;font-size:small">So SiO2 and Si3N4 look great on both PECVD tools.</div><div class="gmail_default" style="font-family:georgia,serif;font-size:small">(PlasmaTherm 790 @250°C & <br>Plasma-Therm <span style="font-family:Arial,Helvetica,sans-serif">Vision 310 Advanced Vacuum @ 300°C, <br>2% SiH4 on both).</span></div><div class="gmail_default" style="font-family:georgia,serif;font-size:small"><span style="font-family:Arial,Helvetica,sans-serif"><br></span></div><div class="gmail_default" style="font-family:georgia,serif;font-size:small">Only a-Si has extremely high non-uniformity from center to edge on the platen, on two different PECVD tools, where a single 100mm wafer in the platen center shows </div><div class="gmail_default" style="font-family:georgia,serif;font-size:small"><b>2-3x thicker on the edge of the wafer</b>, than the center.</div><div class="gmail_default" style="font-family:georgia,serif;font-size:small"><br></div><div class="gmail_default" style="font-family:georgia,serif;font-size:small">Lastly, this user is running 100mm Glass wafers. </div><div class="gmail_default" style="font-family:georgia,serif;font-size:small">Both systems are open-load and it takes ~5-6min before the dep starts (so I think wafer is at temperature), and dep is 20-40min long @ ~12nm/min on the P.T. 790, targeting ~300nm.</div><div class="gmail_default" style="font-family:georgia,serif;font-size:small"><br></div><div class="gmail_default" style="font-family:georgia,serif;font-size:small">SiO2 std recipe: 3.7% uniformity:</div><div class="gmail_default" style="font-family:georgia,serif;font-size:small"><img src="cid:ii_mg10t0sb0" alt="image.png" width="524" height="542"><br></div><div class="gmail_default" style="font-family:georgia,serif;font-size:small"><br></div><div class="gmail_default" style="font-family:georgia,serif;font-size:small">User's a-Si on Glass (100mm borosilicate wf. for example):</div><div class="gmail_default" style="font-family:georgia,serif;font-size:small"><b>3x thicker at edge than center</b></div><div class="gmail_default" style="font-family:georgia,serif;font-size:small"><img src="cid:ii_mg10u25b1" alt="image.png" width="404" height="542"><br></div><br clear="all"></div><div><div dir="ltr" class="gmail_signature" data-smartmail="gmail_signature"><div dir="ltr"><font face="georgia, serif" size="4">-- Demis </font><font face="georgia, serif" size="1">(<a href="https://wiki.nanotech.ucsb.edu/wiki/Demis_D._John" target="_blank">contact info</a>)</font><div><i style="font-family:"times new roman",serif">Reminder</i><span style="font-family:"times new roman",serif">: The NanoFab has a </span><a href="https://wiki.nanotech.ucsb.edu/wiki/Frequently_Asked_Questions#Publications_acknowledging_the_Nanofab" style="font-family:"times new roman",serif" target="_blank">publications policy</a><font face="georgia, serif" size="4"><br></font></div></div></div></div><br></div><br><div class="gmail_quote gmail_quote_container"><div dir="ltr" class="gmail_attr">On Thu, Sep 25, 2025 at 12:59 PM Demis D. John <<a href="mailto:demis@ucsb.edu">demis@ucsb.edu</a>> wrote:<br></div><blockquote class="gmail_quote" style="margin:0px 0px 0px 0.8ex;border-left:1px solid rgb(204,204,204);padding-left:1ex"><div dir="ltr"><div><div class="gmail_default" style="font-family:georgia,serif;font-size:small">Does anyone have processes for higher uniformity for amorphous Silicon PEVCD dep?</div><div class="gmail_default" style="font-family:georgia,serif;font-size:small">On both our PECVD tools, the a-Si recipes are extremely non-uniform (~50% reduced rate from center to edge of the platen!).</div><div class="gmail_default" style="font-family:georgia,serif;font-size:small"><br></div><div class="gmail_default" style="font-family:georgia,serif;font-size:small">The user has tried ↑ SiH4 flow, and ↑ ↓ Bias Power.  They may have tried pressure as well, but no dice yet.</div><div class="gmail_default" style="font-family:georgia,serif;font-size:small"><br></div><div class="gmail_default" style="font-family:georgia,serif;font-size:small">Does any one have experience with how to improve this?  </div><br clear="all"></div><div><div class="gmail_default" style="font-family:georgia,serif;font-size:small">Thanks!</div></div><div><div dir="ltr" class="gmail_signature"><div dir="ltr"><div><font size="4" face="georgia, serif">-- Demis</font></div><div><br></div><div style="color:rgb(136,136,136);font-family:"times new roman",serif"><font size="4">----------------------------------------</font></div><div style="color:rgb(136,136,136)"><i style="font-family:"times new roman",serif"><font size="4">     Process Group Manager</font></i><br></div><div style="color:rgb(136,136,136);font-family:"times new roman",serif"><font size="4"> <font color="#1155cc"><a href="https://www.nanotech.ucsb.edu/" style="color:rgb(17,85,204)" target="_blank"><i>UCSB Nanofabrication Facility</i></a></font></font></div><div style="color:rgb(136,136,136);font-family:"times new roman",serif"><font size="4">         <a href="https://wiki.nanotech.ucsb.edu/wiki/Demis_D._John" style="color:rgb(17,85,204)" target="_blank">Demis' Contact Info</a></font></div><div style="color:rgb(136,136,136)"><div style="font-family:"times new roman",serif"><font size="4">----------------------------------------</font></div></div><i style="font-family:"times new roman",serif;color:rgb(136,136,136)">Reminder</i><span style="font-family:"times new roman",serif;color:rgb(136,136,136)">: The NanoFab has a </span><a href="https://wiki.nanotech.ucsb.edu/wiki/Frequently_Asked_Questions#Publications_acknowledging_the_Nanofab" style="font-family:"times new roman",serif;color:rgb(17,85,204)" target="_blank"><span>publications</span> <span>policy</span></a> </div></div></div></div>
</blockquote></div>