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Dear All,</div>


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I am attempting to deposit NiFe using a magnetron sputtering setup (Angstrom Engineering – Nexdep PVD platform). Below are my target specifications and sputtering parameters:</div>


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Target: NiFe (2" dia × 1 mm, 4N purity) bonded to a 1/8" Cu backing plate</div>


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Sputtering Method: DC Magnetron Sputtering</div>


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DC Power: 100–150 W</div>


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Base Pressure: ~10⁻⁶ Torr</div>


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Ar Gas Flow Rate: 20–30 sccm</div>


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Working Pressure: 3–5 mTorr</div>


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However, I am unable to ignite the plasma. The DC power supply setpoint keeps blinking and the power stalls around 15 W before dropping </div>


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Could this issue be due to insufficient magnetic field strength (not penetrating the thick target/Cu backing), or is the target too thick for effective plasma ignition? Do I need a thinner target or additional magnetic confinement?</div>


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I would greatly appreciate any insights or recommendations from anyone who has sputtered NiFe or similar high-permeability alloys on this platform.</div>


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Thank you in advance!<br>


Pial</div>


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