<div dir="ltr"><div>Hello all,</div><div><br></div><div>What standards are your facilities are using for wet bench exhaust and where on the bench are your exhaust measurements are taken? We are particularly interested in the case of wet stations without a sash located inside cleanrooms with vertical air flow. </div><div><br></div><div>The consensus from the <a href="https://mtl.mit.edu/pipermail/labnetwork/2012-April/000426.html">2012 thread discussing this topic</a> was a minimum face velocity of 80-100 CFM (following ANSI Z9.5 or similar requirements for fume hoods).</div><div><br></div><div>Is anyone using a different minimum velocity? Alternatively, is anyone measuring the capture velocity around the deck openings (i.e. above the baths) instead of the front plane of the bench?</div><div><br></div><div>I found an old Intel supplier document advising both of these modifications but am curious if anyone has them in practice. </div><div><br></div><div><img src="cid:ii_mr9i6zhl0" alt="Screenshot 2026-07-06 at 10.37.42 AM.png" width="509" height="269"></div><div><br></div><div>Thank you!</div><span class="gmail_signature_prefix">-- </span><br><div dir="ltr" class="gmail_signature" data-smartmail="gmail_signature"><div dir="ltr"><div><b><span style="font-family:georgia,serif">All the best,</span></b></div><div><span style="font-family:georgia,serif"><br></span></div><div><span style="font-family:georgia,serif">Hope Fa-Kaji</span></div><div><span style="font-family:georgia,serif;color:rgb(102,102,102)">Semiconductor Equipment Engineer</span></div><div><span style="font-family:georgia,serif;color:rgb(102,102,102)">MicroSystems Laboratory</span></div><div><span style="font-family:georgia,serif;color:rgb(102,102,102)"><img width="420" height="95" src="https://ci3.googleusercontent.com/mail-sig/AIorK4yBx1QCkq_DPrtgR5B_lqZ1t-Y52u9Nq4qfhFi5qkDXBdbcb8OmcM5Is87_HYBHrwehwut24-Put5a8"><br></span></div><div><span style="font-family:georgia,serif"></span></div><div></div></div></div></div>