<div dir="ltr"><div>Hi All,<br><br>We are reaching out to see if anyone has experience etching barium titanate (BaTiO₃, BTO) in a ICP-RIE system (our system is an Oxford PlasmaPro 100 Cobra).<br><br>One of our users has requested to etch BTO using a Cl₂/Ar plasma. Our primary concern is the potential formation of nonvolatile barium chloride (BaCl₂), which could deposit on chamber surfaces and pose a cross-contamination risk for subsequent users. We're trying to understand whether this is a manageable process or one that should be avoided in a multi-user environment.<br><br>I'd be interested in hearing about your experience, including:<br><ul><li>Have you processed BTO in a Cl₂/Ar ICP-RIE?</li><li>If so, did you observe persistent chamber contamination or evidence of cross-contamination?</li><li>Were standard chamber cleaning procedures sufficient to restore the tool?</li><li>Did you implement any special qualification, dedicated hardware, or process restrictions?</li><li>If you decided against running BTO in a shared chlorine etcher, what was your rationale?</li></ul>Any insights, lessons learned, or references to published work would be greatly appreciated.<br><br>Best,</div><div>Jacob<br><br>PS: So good to see many of you at UGIM! </div><div><br></div><div><div dir="ltr" class="gmail_signature" data-smartmail="gmail_signature"><div dir="ltr">-------------------------------------<br><b>Jacob Trevino, PhD</b><br>Senior Director, Columbia Nano Initiative Labs<br>Columbia University<br>530 W120th Street, Room 1015/MC 8903<div>New York, NY 10027<br>Email:<a href="mailto:jt2900@columbia.edu" target="_blank"> jt2900@columbia.edu</a><br>Cell: 734-787-2171</div><div>Desk: 212-854-9927<br><div><a href="https://cni.columbia.edu/" target="_blank">https://cni.columbia.edu/</a></div></div><div><a href="https://www.linkedin.com/in/jacob-t-trevino/" target="_blank">https://www.linkedin.com/in/jacob-t-trevino/</a></div></div></div></div></div>